微电子溅射靶材离子蒸发镀膜原料高纯钴Co999998保真1片单价14克

微电子工业溅射靶材及离子蒸发镀膜 Co>99.9998% 1片单价  ≥14克

国内研究所生产的高纯钴 Co>99.9998%，保真，保含量，有成分单，开发票。检测三十多项杂质，含量指标ppb

含量保证，国内少数几家能生产如此高纯度的工厂生产的专用蒸发镀膜材料。

产品优点 
1，不纯物元素含量极低
2，强度大，密度小，硬度大，熔点高，抗腐蚀性很强；
     高纯度钛具有良好的可塑性

执行标准    GB/T 26018-2010
   

本标准规定了高纯钴的要求、检验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存、质量证明书和合同(或订货单)等内容。
     本标准适用于磁传感材料，光感材料，磁记录溅射靶材及离子镀膜、蒸发镀膜、制造高纯试剂、标样和高纯合金等用途的高纯钴。

 有检测报告，请联系卖家索取。