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微电子溅射靶材离子蒸发镀膜原料高纯钴Co999998保真1片单价14克

产品详情

微电子工业溅射靶材及离子蒸发镀膜 Co>99.9998% 1片单价  ≥14克

 

国内研究所生产的高纯钴 Co>99.9998%,保真,保含量,有成分单,开发票。检测三十多项杂质,含量指标ppb

 

含量保证,国内少数几家能生产如此高纯度的工厂生产的专用蒸发镀膜材料。

产品优点 
1,不纯物元素含量极低
2,强度大,密度小,硬度大,熔点高,抗腐蚀性很强;
     高纯度钛具有良好的可塑性

执行标准    GB/T 26018-2010
   

本标准规定了高纯钴的要求、检验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存、质量证明书和合同(或订货单)等内容。
     本标准适用于磁传感材料,光感材料,磁记录溅射靶材及离子镀膜、蒸发镀膜、制造高纯试剂、标样和高纯合金等用途的高纯钴。

 

 有检测报告,请联系卖家索取。

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